CKD Teknologi ora mung duwe account mesin anyar ing Simpenan, kasedhiya langsung.
Kita uga duwe bisnis nyewakake rinci, siap kanggo nyedhiyani syarat produksi tartamtu nalika Ngartekno Mudhunake investasi dhisikan. Hubungi kita kanggo rincian liyane.
CKD duwe tim insinyur profesional, siap ngirim layanan kunci.
Kanggo dagang mesin bekas, hubungi kita liwat Whatspp utawa email.
-----------------------------------------------------------------------------------
Sistem plasma MYL10 entuk perawatan permukaan kanthi dhuwur kanggo pigura timbal.
• Sistem plasma argon tekanan atmosfer
• 100mm-sudhut inline pangolahan plasma kumpulan; nawakake efisiensi 2-5 kaping luwih lan biaya operasi luwih 30% luwih murah dibandhingake karo cara tradisional; throughput maksimum 1.800 UPH
• High-throughput, produksi fleksibel banget: bisa ngolah pigura timbal saka macem-macem ukuran, kalebu pangolahan simultan saka macem-macem ukuran
• 100% plasma netral: aman lan lembut ing komponen elektronik sing sensitif; ora ngasilake bom plasma, listrik statis, percikan api, busur, bledug, panas dhuwur, riak permukaan, utawa radiasi UV, supaya ora ngrusak produk.
• Multiple pangolahan kimia: proses O2 mbusak rereged organik; Proses H2 mbusak oksida logam lan ngaktifake permukaan produk
• Ora ana kontaminasi partikel utawa cairan ing prodhuk
| Parameter dhasar | MYL10 |
| Keperluan Daya | AC 200~240V, 5kW, 23A, 50/60Hz |
| Persyaratan Tekanan Udara | 90 psi (6 bar) |
| ukuran | 1500 x 2100 x 2100 mm |
| Bobot | 2500 kg |
| Standar Sertifikasi | CE, SEMI S2 |
| Akurasi Positioning | XY: ±20 µm @ 3σ; Z: ± 5 µm @ 3σ |
| XYZ-Axis Repeatability | XY: ±15 µm @ 3σ; Z: ± 5 µm @ 3σ |
| Kacepetan maksimum | 1000 mm/s (XY) |
| Akselerasi | 1,0 g |
| Sistem penggerak | AC Servo Kab |
| Parameter Platform Kerja | |
| Tipe Rel | Rel |
| Jumlah Rel | 4 |
| Range Ketebalan Produk | 0,1–1 mm |
| Z-Axis Travel | 100 mm |
| Maks. Throughput (UPH) | 1800 |
| Protokol Komunikasi | SMEMA |
| Range Kerja | |
| Area Perawatan Plasma (W×D) | 300–1320 mm |
| Cara perawatan plasma | Proses O2 kanggo mbusak rereged organik Proses H2 kanggo mbusak oksida logam |
| Syarat sistem plasma | |
| daya RF | 600 W ing 27,12 MHz |
| Gas plasma utama | Argon |
| Proses gas | O2, N2, utawa H2 |
| Range tekanan pasokan gas | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
alamat
Lantai 5, Gedung 2, No. 182, Jalan Chang'an Xi'an, Kutha Chang'an, Dongguan, Provinsi Guangdong, China.
Telp
